• 進口晶圓清洗機日常使用中的保養工作

    點擊次數:1540 發布時間:2018-10-29

       在所有的清洗方式中,進口晶圓清洗機是效率zui高、效果的一種,之所以超聲波清洗能夠達到如此的效果,是與它*的工作原理和清洗方法密切相關的。我們知道,在生產和生活當中,需要清潔的東西很多,進口晶圓清洗機需要清洗的種類和環節也很多,如:物件的清除污染物,疏通細小孔洞,常見的手工清洗方法對異型物件以及物件隱蔽處無疑無法達到要求,即使是蒸汽清洗和高壓水射流清洗也無法滿足對清潔度較高的需求,超聲波清洗對物件還能達到殺滅細菌、溶解有機污染物、防止過腐蝕等,因此,進口晶圓清洗機被日益廣泛應用于各行各業:
     
      1、機械行業:防銹油脂的去除;量具的清洗;機械零部件的除油除銹;發動機、化油器及汽車零件的清洗;過濾器、濾網的疏通清洗等。
     
      2、表面處理行業:電鍍前的除油除銹;離子鍍前清洗;磷化處理;清除積炭;清除氧化皮;清除拋光膏;金屬工件表面活化處理等。
     
      3、儀器儀表行業:精密零件的高清潔度裝配前的清洗等。
     
      4、電子行業:印刷線路板除松香、焊斑;高壓觸點等機械電子零件的清洗等。
     
      5、醫療行業:醫療器械的清洗、消毒、殺菌、實驗器皿的清洗等。
     
      6、半導體行業:半導體晶片的高清潔度清洗。
     
      7、鐘表首、飾行業:清除油泥、灰塵、氧化層、拋光膏等。
     
      8、化學、生物行業:實驗器皿的清洗、除垢。
     
      9、光學行業:光學器件的除油、除汗、清灰等。
     
      10、紡織印染行業:清洗紡織錠子、噴絲板等。
     
      11、石油化工行業:金屬濾網的清洗疏通、化工容器、交換器的清洗等。
     
      如何保養晶圓清洗機?保養晶圓清洗機的方法有哪些?保養晶圓清洗機注意事項有哪些?下面就由小編為大家總結了一些使用經驗,希望能對大家在養護時得到幫助。
     
      進口晶圓清洗機日常維護:
     
      1、沖洗接入清潔劑的軟管和過濾器,去除任何洗滌劑的殘留物以助于防止腐蝕;
     
      2、關斷連接到清洗機上的供水系統;
     
      3、扣動伺服噴槍桿上的扳機可以將軟管里全部壓力釋放掉;
     
      4、從清洗機上卸下橡膠軟管和高壓軟管;
     
      5、切斷火花塞的連接導線以確保發動機不會啟動(適用于發動機型)。
     
      電動型:
     
      將電源開關轉到‘開’和‘關’的位置四到五次每次1-3秒以清除泵里的水。這一步驟將有助于保護泵免受損壞。
     
      發動機型:
     
      緩慢地拉動發動機的啟動繩5次來清除泵里的水。這一步驟將有助于保護泵免受損壞。
     
      定期維護---每2個月維護一次
     
      1、定期從貯油箱里清除燃料沉淀物將延長發動機的使用壽命和性能。燃料的沉淀物會導致對燃料管道,燃料過濾器和化油器的損壞;
     
      2、當不使用高壓清洗機時用凱馳泵的防護套件來保護你的高壓清洗機。泵的防護套間是特別用來保護高壓清洗機防止受腐蝕,過早磨損和凍結等。并且要給閥和密封圈涂上潤滑劑,防止它們卡住。
     
      進口晶圓清洗機電動型:
     
      1、關閉晶圓清洗機;
     
      2、將高壓軟管和伺服噴槍桿與泵斷開連接;
     
      3、將閥接在泵防護罐上并打開閥;
     
      4、啟動打開清洗機,將罐中所有物質吸入泵里;
     
      5、關閉清洗機,現在高壓清洗機可以直接貯存。
     
      發動機型:
     
      1、關閉晶圓清洗機;
     
      2、將高壓軟管和伺服噴槍桿與泵斷開連接;
     
      3、將閥接在泵防護罐上并打開閥;
     
      4、點火,拉動啟動繩,將罐中所有物質吸入泵里;
     
      5、現在晶圓清洗機可以直接貯存。
     
      晶圓清洗機應用范圍
     
      1、爐前清洗:擴散前清洗。
     
      2、光刻后清洗:除去光刻膠。
     
      3、氧化前自動清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
     
      4、拋光后自動清洗:除去切、磨、拋的沾污。
     
      5、外延前清洗:除去埋層擴散后的SiO2及表面污物。
     
      6、合金前、表面鈍化前清洗:除去鋁布線后,表面雜質及光膠殘渣。
     
      7、離子注入后的清洗:除去光刻膠,SiO2層。
     
      8、擴散預淀積后清洗:除去預淀積時的BSG和PSG。
     
      9、CVD后清洗:除去CVD過程中的顆粒。
     
      10、附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物
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