• 兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備

    點擊次數:1018 發布時間:2019-05-28

       兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。
     
      兆聲清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
     
      兆聲清洗機具有以下特點:
     
      1、械手或多機械手組合,實現工位工藝要求。
     
      2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面,操作便利。
     
      3、自動上下料臺,準確上卸工件。
     
      4、凈化烘干槽,*的烘干前處理技術,工作干燥無水漬。
     
      5、全封閉外殼與抽風系統,確保良好工作環境。
     
      6、具備拋動清洗功能,保證清洗均勻。
     
      7、全封閉清洗均勻。
     
      8、全封閉外殼與抽風系統,確保良好工作環境。
     
      兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
     
      掩模板清洗機技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的zui大化支持的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
     
      兆聲清洗機通過聯合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術,系統去除顆粒的能力得到進一步優化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升,從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去,而把回附的數量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優勢,的靜態可循環兆聲清洗槽會有更大數量的顆?;馗?,并且因此需要更多的去除這些顆粒。
     
      兆聲清洗機還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除,而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用,某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
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