• 我們的優勢|磁控濺射

    點擊次數:1234 發布時間:2019-08-26

    NANO-MASTER設計制造的磁控濺射系統在行業內有*的競爭力,設備擁有以下突出的優勢:

    1. 計算機全自動控制的自動上下片,上面和對準的過程全部通過計算機控制,無需人工操作,并且不會損傷系統;

    2. 全自動膜厚監控,客戶可以在軟件設定目標膜厚,整個工藝階段可以實現無人值守,無需人工介入,薄膜膜厚具有高度的重復性;

    3. 出色的膜厚均勻度,對于6"片范圍內,濺射金屬膜時,可以達到優于+/-1%的均勻度;

    4. 系統可以支持濺射前的等離子預清洗功能,提供優異的膜基層性能;

    5. 系統支持預濺射,可以去除靶材的污染物后再打開遮板,實現高純膜濺射;

    6. 全自動的工藝控制,提供20"的觸摸屏監控屏幕,可以保存不限數量的程序,每個程序支持1-100個工藝步驟;

    7.分子泵與腔體采用直連設計,可以提供優異的真空傳導率。8小時即可達到5x10-7Torr的極限真空,15分鐘達到10-6Torr量級的工藝真空;

    8. 腔體下游壓力控制,通過計算自動控制分子泵的渦輪速度,實現腔體下游壓力的全自動調節,快速穩定;

    9. 緊湊型設計,包含自動上下片單元的主機總占地面積僅26"*42",節省實驗室寶貴的空間。

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