• 探討等離子去膠機的影響因素有哪些?

    點擊次數:1323 發布時間:2020-04-27

      我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能,今天我們來探討下等離子去膠機。
     
      等離子去膠機反應機理:在干法等離子去膠技術中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果,電離發生氧離子、游離態氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.
     
      等離子去膠操作方法:將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向,推入真空室兩電極間,抽真空到1.3Pa,通入恰當氧氣,堅持真空室壓力在1.3-13Pa,加高頻功率,在電極間發生淡紫色輝光放電,經過調理功率、流量等技術參數,可得不一樣去膠速率,當膠膜去凈時,輝光不見。
     
      等離子去膠影響要素:
     
      1.頻率挑選:頻率越高,氧越易電離構成等離子體。頻率太高,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,使電離率降低。
     
      2.功率影響:關于必定量的氣體,功率大,等離子體中的的活性粒子密度也大,去膠速度也快;但當功率增大到必定值,反響所能耗費的活性離子到達飽滿,功率再大,去膠速度則無顯著添加。由于功率大,基片溫度高,所以應根據技術需求調理功率。
     
      3.真空度的挑選:恰當進步真空度,可使電子運動的平均自由程變大,因而從電場取得的能量就大,有利電離。別的當氧氣流量必守時,真空度越高,則氧的相對份額就大,發生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高,活性粒子濃度反而會減小。
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