• 既然是進口ALD設備,那么它有哪些與眾不同之處?

    點擊次數:847 發布時間:2021-01-13


        進口ALD設備原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術,具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性,可以提供優異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。

        進口ALD設備特點:

        占地面積小

        計算機控制,Labview軟件全自動工藝控制

        360A厚的AL2O3膜,誤差為±1A

        三維鍍膜,接近100%的階梯覆蓋率

        設備集成安全氣柜

        10mTorr的極限真空

        可支持6“,8”基片(升級支持12“,或定制更大尺寸)

        樣品臺可加熱至400℃(可選加熱到500℃)

        手動/自動上下載片可選

        支持多達7路的50ml的液態或固態前驅體瓶源

        進口ALD設備選配:

        下游式遠程平面ICP源或中空陰極離子源,支持PEALD

        自動上下片,單片或25片cassette

        增加額外的液態qia前驅體或額外的fan'ying反應氣路

        300l/sec的磁懸浮渦流分子泵,5*10-7Torr極限真空

        大尺寸的基片或fe粉末的沉積

        QCM原位膜厚監控系統
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