• 看完這篇文章才知道硅片清洗機的應用范圍是如此的廣泛

    點擊次數:632 發布時間:2021-06-25


        硅片清洗機可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

        硅片清洗機應用:

        帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

        Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗

        CMP處理后的晶圓片清洗

        晶圓框架上的切粒芯片清洗

        等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

        帶保護膜的分劃版清洗

        掩模版空白部位或接觸部位清洗

        X射線及極紫外掩模版清洗

        光學鏡頭清洗

        ITO涂覆的顯示面板清洗

        兆聲輔助的剝離工

        硅片和藍寶石片清洗

        帶晶圓框架的芯片清洗

        FSI清洗

        硅片和藍寶石片清洗

        帶晶圓框架的芯片清洗

        顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗

        帶圖案及無圖案掩模版清洗

        帶保護膜分劃板的背面清洗

        薄膜結構膠粘劑清洗

        光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠

        背面多晶去除

        顯影和其他刻蝕應用
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