• 影響微波等離子去膠清洗機性能的四大因素

    點擊次數:188 發布時間:2022-05-20

     
      微波等離子去膠清洗機是石英腔的微波等離子系統,可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中的犧牲層去除。
     
      下面為大家介紹微波等離子去膠清洗機使用中的四大影響因素,希望對大家有所幫助。
     
      一、調整合適的頻率:
     
      頻率越高,氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過高,使電子振幅短于其平均自由程,電子與氣體分子碰撞的概率就會降低,導致電離率降低。通常,公共頻率為13.56MHz和2.45GHz。
     
      第二,調整適當的權力:
     
      關于一定量的氣體,功率大,等離子體中活性粒子的密度也高,脫膠速度也快;但當功率增加到一定值時,響應消耗的活性離子達到飽和,脫膠速度隨功率的增加不明顯增加。由于功率大,襯底溫度高,需要根據技術要求調整功率。
     
      第三,調整合適的真空度:
     
      適當的真空度可以使電子運動的平均自由程更大,因此從電場中獲得的能量更大,有利于電離。此外,當氧氣流量必須準時時,真空度越高,氧氣的相對份額越大,活性顆粒濃度越大。但如果真空度過高,活性粒子的濃度反而會降低。
     
      四、氧氣流量的調整:
     
      氧氣流量大,活性顆粒密度大,脫膠速率加快;但如果通量過大,離子的復合幾率增加,電子運動的平均自由程縮短,電離強度反而降低。如果回轉室的壓力不變,流量增加,則還增加了被抽出的氣體量,也增加了不參與回轉的活性顆粒量,因此流量對脫膠率的影響不是很顯著。
     
      等離子去膠機是半導體行業工業化生產不可少的設備;
     
      高密度2.45GHz微波等離子體技術用于半導體制造中晶圓的清洗、脫膠和等離子體預處理。等離子體清洗脫膠活性高,對器件無離子損傷。微波等離子體脫膠機是微波等離子體處理技術的新產品。該晶圓灰化設備成本低、尺寸適中、性能先進,特別適用于工業生產和科研機構。
點擊這里給我發消息
 

化工儀器網

推薦收藏該企業網站
韩国a级作爱片_国产系列丝袜熟女精品网站_国产剧情国产精品一区_苍井そら无码av_97人摸人人澡人人人超碰 <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>