• 帶你一文領略磁控濺射

    點擊次數:234 發布時間:2022-06-22

    主要功能:

    主要用于半導體應用,及各種需要進行微納工藝濺射鍍膜的情形??梢?/span>用于金屬材料(金、銀、銅、鎳、鉻等)的直流濺射、直流共濺射,絕緣材料(如陶瓷等)的射頻濺射,以及反應濺射能力?;芍С止杵?,氧化硅片,玻璃片,以及對溫度敏感的有機柔性基片等。

     

    工作原理:

    通過分子泵和機械泵組成的兩級真空泵對不銹鋼腔體抽真空,當廣域真空計顯示的讀數達到10-6Torr量級或更高的真空時,主系統的控制軟件通過控制質量流量計精確控制Ar氣體(如需要濺射氧化物薄膜,可增加O2),此時可以設定工藝所要求的真空(一般在0.1-10Pa范圍)。這時可以根據濺射的需要開啟RFDC電源,并通過軟件選擇所要濺射的靶槍,產生的Ar等離子轟擊相應的靶槍(如果增加O2,氧原子則會與濺射出來的原子產生反應,實現反應濺射)。并在樣品臺上方的基片上沉積出相應的薄膜,薄膜的膜厚可以通過膜厚監控儀自動控制。工藝狀況可通過腔門上的觀察視窗實時觀看。自動遮板則可以遮擋每一次除了被選中的靶槍外的其它靶槍,防止被污染。

     

    設備優勢:

    考慮實驗應用要求工藝數據的可靠性,NANO-MASTER的磁控濺射設備在鍍膜均勻性、重復性和設備穩定性等方面均有優勢。

    1、鍍膜均勻性:在關鍵的鍍膜均勻性方面,對于6”硅片的金屬材料鍍膜,NM設備可以達到優于3%的鍍膜均勻度。

    2、設備制造工藝:在配備相似等級的分子泵及機械泵的情況下,NM設備普遍具有更快的抽真空速率,可在20-25分鐘左右就達到高真空工藝。腔體真空的穩定度影響鍍膜的性能。

    3、工藝的可重復性:NM設備在工藝控制方面,有更高的自動化能力,通過PC控制,減少人工干預造成的工藝偏差。相比需要人工配合的設備,導致不同人采用同樣的工藝做出來的效果卻不同,甚至同一個人在不同時間運行相同的工藝做出來的效果也不同。

    4、設備的緊湊性:在滿足相同性能情況下,由于加工精密度方面的優勢,NM設備具有更緊湊的設計,占地面積較小,節約實驗室寶貴的空間。

    5、設備的穩定性:NM設備的維護率較低,可以保證設備較長時間的穩定運行,保證科研進度。

     

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