• 掩模板清洗機工作原理狀況分析簡述
    點擊次數:1682 發布時間:2018-11-13
       掩模板清洗機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,微波等離子清洗機發生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,在任何暴露的表面引起化學反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等離子清洗機利用等離子處理時會發出輝光,故稱之為輝光放電處理。
     
      掩模板清洗機也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。微波等離子清洗機對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目的。
     
      等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
     
      掩模板清洗機原理:
     
      清洗機是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團;離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。
     
      在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等體子體轟被清洗產品面。以達到清洗目的。
     
      我們在長期從事等離子體應用技術研究和設備研制的基礎上,充分借鑒歐美的先進技術,并通過與國內外著名研究機構的技術合作,微波等離子清洗機開發出具有自主知識產權的電容耦合放電、電感耦合放電和遠區等離子放電等多種放電類型的產品。特色鮮明的處理腔體形狀和電極結構可以滿足不同形狀、不同材質的表面處理要求,包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
     
      掩模板清洗機的等離子技術在橡塑行業的應用已非常成熟,其相關產值逐年增加,國外市場比國內市場產值高,但國內可發展空間大,應用前景誘人。
     
      經濟的發展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質量要求也越來越高,等離子技術隨之逐步進入生活消費品生產行業中;另外,科技的不斷發展,各種技術問題的不斷提出,新材料的不斷涌現,越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性,并投入大量資金進行技術攻關,等離子技術在其中發揮了非常大的作用。我們深信等離子技術應用范圍會越來越廣;技術的成熟,成本的降低,其應用會更加普及。
     
      微波等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
     
      掩模板清洗機技術的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
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