• 硅片清洗機的技術資料簡述
    點擊次數:1147 發布時間:2020-01-03
         硅片清洗機不僅保留了超聲波清洗的優點,而且克服了超聲波清洗的缺點。兆聲無損清洗機的工作原理是利用高能(850kHz)頻率效應和化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗。在清洗過程中,換能器發出的高能聲波波長為1 m,頻率為0.8 MHZ。在聲波的驅動下,溶液的分子運動得更快。瞬時速度可達30cm/s。因此,無法形成超聲清洗等氣泡。相反,硅片清洗機只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面,迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進入清洗溶液中。
     
        經濟的發展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質量要求也越來越高,等離子技術隨之逐步進入生活消費品生產行業中;另外,科技的不斷發展,各種技術問題的不斷提出,新材料的不斷涌現,越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性,硅片清洗機并投入大量資金進行技術攻關,等離子技術在其中發揮了非常大的作用。我們深信等離子技術應用范圍會越來越廣;技術的成熟,成本的降低,其應用會更加普及。
     
        硅片清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
     
        硅片清洗機有三種方法:
     
        ①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。
     
        ②高壓清洗:是用液體噴射片子表面,噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用,片子不易產生劃痕和損傷。但高壓噴射會產生靜電作用,靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。
     
        ③超聲波清洗:超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段,清洗效果更好。
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