• 全自動磁控濺射系統的設備特點和主要應用
    點擊次數:186 發布時間:2022-05-10
     
      全自動磁控濺射系統帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7Torr,15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
     
      全自動磁控濺射系統的產品特點:
     
      不銹鋼腔體
     
      260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
     
      13.56MHz,300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源
     
      晶振夾具具有的<1?的厚度分辨率
     
      帶觀察視窗的腔門易于上下載片
     
      基于LabView軟件的PC計算機控制
     
      帶密碼保護功能的多級訪問控制
     
      完全的安全聯鎖功能
     
      預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
     
      選配項:
     
      RF、DC濺射
     
      熱蒸鍍能力
     
      RF或DC偏壓(1000V)
     
      樣品臺可加熱到700°C
     
      膜厚監測儀
     
      基片的RF射頻等離子清洗
     
      全自動磁控濺射系統的應用:
     
      晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆,光學以及ITO涂覆,帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆。
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