• 進口掩模板清洗機先進的清洗技術成為了一款理想設備
    點擊次數:3237 發布時間:2015-09-22
       進口掩模板清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

    進口掩模板清洗機技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的zui大化支持的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

      進口掩模板清洗機通過聯合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術,系統去除顆粒的能力得到進一步優化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升,從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去,而把回附的數量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優勢,的靜態可循環兆聲清洗槽會有更大數量的顆?;馗?,并且因此需要更多的去除這些顆粒。

      進口掩模板清洗機還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除,而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用,某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
      
    進口掩模板清洗機特點:
      臺式系統
      無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉甩干
      支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
      微處理機自動控制
      IR紅外燈
      
    進口掩模板清洗機應用:
      帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
      Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
      CMP處理后的晶圓片清洗
      晶圓框架上的切粒芯片清洗
      等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
      帶保護膜的分劃版清洗
      掩模版空白部位或接觸部位清洗
      X射線及極紫外掩模版清洗
      光學鏡頭清洗
      ITO涂覆的顯示面板清洗
      兆聲輔助的剝離工藝



    進口掩模板清洗機
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