• 反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷
    點擊次數:2110 發布時間:2016-01-12
        反應離子刻蝕機是一款獨立式RIE反應離子刻蝕系統,配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷。反應離子刻蝕機可以支持zui大到12"的晶圓片。腔體為超凈設計,并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。反應離子刻蝕機系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節流閥,一個250l/s的渦輪分子泵,濾網過濾器,以及一個10cfm的機械泵(帶Formblin泵油)。RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動調諧器提供。系統將持續監控直流自偏壓,該自偏壓可以高達-500V,這對于各向異性的刻蝕至關重要。

        反應離子刻蝕機是基于PC控制的全自動系統。系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示,流量及功率則以數字形式實時顯示。系統提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護人員級。允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式),和全自動執行程序模式(操作模式)運行系統?;谌詣拥目刂?,該系統具有高度的可重復性。
       
    反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷
        1. 確認萬用表工作正常,量程置于200mV。
        2.冷探針連接電壓表的正電極,熱探針與電壓表的負極相連。
        3.用冷、熱探針接觸硅片一個邊沿不相連的兩個點,電壓表顯示這兩點間的電壓為正值,說明導電類型為P 型,刻蝕合格。相同的方法檢測另外三個邊沿的導電類型是否為P型。
        4.如果經過檢驗,任何一個邊沿沒有刻蝕合格,則這一批硅片需要重新裝片,進行刻蝕。
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