• 北京理工大學RIE-PECVD順利安裝驗收
    點擊次數:2010 發布時間:2017-09-12


    今年7月,北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設備是Nano-Master極富特色的雙系統設備,一套設備中實現反應離子刻蝕工藝,同時具備等離子增強化學氣相沉積的工藝能力,既避免客戶擔心的交叉污染問題,又為實驗室節省了寶貴的空間和預算,是大學院校和科研機構的熱門選擇。

    NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達12” 直徑的基片上,可以通過不同配置實現高速沉積,或控制氮化物薄膜應力,或支持CNT和石墨烯生長。主要型號包含NPE-3000,NPE-3500,和NPE-4000。同時,NANO MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動RIE系統主要用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬,可以根據需要配置ICP實現快速深刻,DRIE系統可用于深硅刻蝕。主要型號包含NRE-3000,NRE-3500,NRE-4000,NDR-4000。 如果用戶同時有RIE和PECVD的需求,我們可以提供雙系統方案以節省空間和預算。

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