• NRE-4000(M)反應離子刻蝕:獨立式RIE系統,淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12”的晶圓片。腔體為超凈設計,并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空
  • NRE-4000型RIE-PE刻蝕機:提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機,配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設計,真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。
  • NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。
  • NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕:是一款自動放片/取片,并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統,可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
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