• 產品名稱:NIE-4000IBE離子束刻蝕系統

    產品型號:

    產品報價:

    產品特點:NIE-4000IBE離子束刻蝕系統:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。
    NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內。

    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統的詳細資料:

    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統

    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統概述:

         如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

               NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。

    產品特點:

    • 14.5"不銹鋼立體離子束腔體
    • 16cm DC離子槍1000eV,500mA, 氣動不銹鋼遮板
    • 離子束中和器
    • 氬氣MFC
    • 6"水冷樣品臺
    • 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機
    • 步進電機控制晶圓片傾斜
    • 手動或自動上下載晶圓片
    • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
    • 6"范圍內,刻蝕均勻度+/-3%
    • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
    • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
    • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
    • 菜單驅動,4級密碼訪問保護
    • 完整的安全聯鎖

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