• 產品名稱:NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕

    產品型號:

    產品報價:

    產品特點:NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕:可以用于光柵刻蝕,SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外,還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統可以兼容反應氣體以及非反應氣體,比如Ar,O2,CF4,Cl2等。

    NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕的詳細資料:

    RIBE反應離子束刻蝕

    NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕產品概述:該系統為計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統,具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。所有核心組件均為。

    NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕產品特點:

    • 低成本
    • 離子束:高達2KV/10mA
    • 離子電流密度100-360uA/cm2
    • 離子束直徑:4",5",6"
    • 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
    • 極限真空5x10-7Torr
    • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
    • 14"不銹鋼或鋁質腔體
    • 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
    • 自動上下載片(NIE-3500)
    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
    • 占地面積30"x30"

    產品應用:

    • 表面清洗
    • 表面處理
    • 離子銑
    • 帶活性氣體的離子束刻蝕
    • 光柵刻蝕
    • SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

     

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