• 產品名稱:NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統

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    產品特點:NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產生的離子束,可對固體材料濺射刻蝕,對固體器件進行微細加工。

    NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統的詳細資料:

    IBM離子銑

    NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統產品概述:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產生的離子束,可對固體材料濺射刻蝕,對固體器件進行微細加工。該系統為全自動上下載片,計算機全自動控制的系統。

    NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。

    NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統產品特點:

    • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
    • 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
    • 離子束中和器
    • 氬氣MFC
    • 6”水冷樣品臺
    • 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機
    • 步進電機控制晶圓片傾斜
    • 自動上下載晶圓片
    • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
    • 6”范圍內,刻蝕均勻度+/-3%
    • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
    • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
    • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
    • 菜單驅動,4級密碼訪問保護
    • 完整的安全聯鎖

     

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