ICP等離子刻蝕
NRE-4000(ICPA)全自動ICP刻蝕系統概述:自動上下載片,是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統,具有高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕能力??蓪崿F范圍廣泛的刻蝕工藝,包括刻蝕III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介質材料、玻璃、石英、金屬,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。
NRE-4000(ICPA)全自動ICP刻蝕系統主要特點:
配置內容:
應用領域:
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