磁控濺射技術
NSC-1000磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達6"旋轉平臺,支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-1000帶有10”派熱克鐘罩腔體,2個2”的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監測儀(選配)。由于NSC-1000的空間有限,我們不能在NSC-1000系統上提供更多的電源和磁控管。我們可以提供我們的NSC-1000系統,用于SEM應用,也可以用于濺射金屬到z大6”的晶圓片。
NSC-1000磁控濺射系統產品特點:
選配項:
應用:
如果你對NSC-1000磁控濺射系統感興趣,想了解更詳細的產品信息,填寫下表直接與廠家聯系: |
相關同類產品: |
NSC-4000(A)全自動磁控濺射系統 | NSC-4000(M)磁控濺射系統 | NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統 | NSC-3500(M)磁控濺射系統 | NSC-3000(A)全自動磁控濺射系統 | NSC-3000(M)磁控濺射系統 | NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機 |