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    產品名稱：NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統

    產品型號：

    產品報價：

    產品特點：NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統的詳細資料：

    磁控濺射技術

    NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6"旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    NSC-3500（A）帶有14”立方形不銹鋼腔體，3個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，350 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

    NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統產品特點：

    • 不銹鋼腔體
    • 260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
    • 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
    • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
    • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
    • 基于LabView軟件的PC計算機控制
    • 帶密碼保護功能的多級訪問控制
    • 完全的安全聯鎖功能
    • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

    選配項：

    • RF、DC濺射
    • 熱蒸鍍能力
    • RF或DC偏壓（1000V）
    • 樣品臺可加熱到700°C
    • 膜厚監測儀
    • 基片的RF射頻等離子清洗

    應用：

    • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
    • 光學以及ITO涂覆
    • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
    • 帶RF射頻等離子放電的反應濺射

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