磁控濺射技術
NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-3500(A)帶有14”立方形不銹鋼腔體,3個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統產品特點:
選配項:
應用:
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