• 產品名稱:磁控濺射系統

    產品型號:NSC-4000(M)

    產品報價:

    產品特點:NSC-4000(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到到8“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    NSC-4000(M)磁控濺射系統的詳細資料:

    磁控濺射技術

    NSC-4000(M)磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達8"旋轉平臺,可支持4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    NSC-4000帶有13”鋁質腔體,42”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,500 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

    NSC-4000(M)磁控濺射系統產品特點:

    • 不銹鋼,鋁質腔體
    • 260500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
    • 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
    • 晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
    • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
    • 基于LabView軟件的PC計算機控制
    • 帶密碼保護功能的多級訪問控制
    • 完全的安全聯鎖功能

    NSC-4000(M)選配項:

    • 不銹鋼腔體
    • 熱蒸鍍能力
    • RF、DC濺射
    • RFDC偏壓(1000V
    • 樣品臺可加熱到700°C
    • 膜厚監測儀
    • 基片的RF射頻等離子清洗
    • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

    NSC-4000(M)應用:

    • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
    • 光學以及ITO涂覆
    • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
    • RF射頻等離子放電的反應濺射

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