• 產品名稱:NMC-4000(M) MOCVD設備

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    產品特點:NMC-4000(M) MOCVD設備:NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,

    NMC-4000(M) MOCVD設備的詳細資料:

    等離子輔助MOCVD技術

    NMC-4000(M) MOCVD設備概述:NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,完全的安全互鎖。

    目前,這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統,該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

    NMC-4000(M) MOCVD設備特點:

    • 臺式系統
    • 10英寸不銹鋼腔體
    • 帶碰頭氣體分配器的射頻等離子源
    • 自動調節
    • 4英寸基片夾、可加熱到900°C
    • 5個帶獨立冷卻/加熱的起泡器
    • 加熱氣體管道
    • 附加流量控制器
    • 250升/秒渦輪分子泵組
    • 5×10-7托基準壓
    • 電腦程序全自動驅動
    • 儀器模擬用戶界面
    • 緊急按鈕保護和安全互鎖

    選配:

    • 立式獨立系統
    • 感應耦合等離子或微波等離子源
    • 14英寸電解拋光立方體腔體
    • 8英寸或12英寸基片夾
    • 6英寸可加熱至700°C旋轉基板臺(4英寸可到950°C)
    • 附加的起泡器和MFC
    • 晶圓自動裝載/卸載
    • 可兼容集群配置

    應用:

    • 3到5族半導體層
    • 藍色發光二極管
    • 激光二極管
    • 紫外-可見光譜光電中的氮化銦納米棒
    • 3D或2D材料中的二硫化鉬、氮化硼、石墨烯

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