• 產品名稱:Plasma Source等離子體源

    產品型號:

    產品報價:

    產品特點:NANO-MASTER (那諾-馬斯特)可根據客戶需求,提供合適的Plasma Source等離子體源,可以是空心陰極等離子源,也可以是感應耦合等離子源。等離子源可應用于離子輔助鍍膜、等離子聚合、等離子清潔、等離子刻蝕、表面改性以及其他材料科學的研究等等。

    Plasma Source等離子體源的詳細資料:

    Plasma Source等離子體源

    離子源類型

    特征

    應用

    選項

    Plasma Source等離子體源1:

    NANO-MASTER

    淋浴頭等離子體源SH-1000

    • 射頻淋浴頭等離子體源
    • 氣體通過射頻板
    • 二級板將其他氣體引入等離子體
    • 水冷卻
    • 至大600瓦
    • 可在0.02托至8托之間操作
    • 8英寸有效區域
    • ISO 250法蘭

     

     

    2:

    空心陰極13.56 MHz射頻等離子體源

     

    • 支持擴展功率和氣壓范圍操作
    • 高濃度高活性高均勻性等離子體(1011 cm-3
    • 兼容化學反應和非化學反應氣體
    • 等幅波和脈沖電源
    • 低污染
    • 等離子增強化學氣相沉積
    • 等離子聚合
    • 等離子清潔
    • 等離子刻蝕
    • 表面改性
    • 600mm線性等離子源
    • 900mm線性等離子源

    3:

    SLAN(SLot ANtenna)2.45 GHz微波等離子體源

     

    • 高濃度等離子體
    • 壓力范圍在10-5毫巴到大氣壓
    • 兼容化學反應和非化學反應氣體
    • 低污染
    • 電子回旋共振(ECR)或非電子回旋共振(non-ECR)操作
    • 等幅波和脈沖電源
    • 等離子增強化學氣相沉積
    • 等離子聚合
    • 等離子清潔
    • 等離子刻蝕
    • 表面改性
    • 材料科學
    • 直徑4厘米
    • 直徑16厘米
    • 直徑67厘米

    4:

    電感耦合等離子體源ICP-P 200(13.56MHz)

     

    • 200毫米直徑的平面線圈
    • 擴展功率范圍在3-1200瓦
    • 低能量擴散
    • 高濃度高活性等離子體
    • 低污染
    • 等幅波和脈沖電源
    • 等離子增強化學氣相沉積
    • 等離子聚合
    • 等離子清潔
    • 等離子刻蝕
    • 表面改性

     

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