微波等離子化學氣相沉積系統
微波等離子化學氣相沉積系統概述:NANO-MASTER PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜,至大可達6” 直徑的基片上,該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子,具有分形氣流分布的優勢,樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。并可以支持加熱和循環冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵,腔體可以達到低至10-7 torr的真空。
微波等離子化學氣相沉積系統應用:
微波等離子化學氣相沉積系統特點:
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