• 產品型號:NSC-4000(M)

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    NSC-4000(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到到8“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
  • NSC-4000(A)全自動磁控濺射系統:立式自動系統,帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉平臺,Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
  • NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統:立式自動系統,帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達6“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
  • NSC-3500(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達8“旋轉平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
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