• 等離子去膠機:NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
  • NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
  • NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
  • NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
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